NIKKATO日陶高真空熱處理設(shè)備

 NIKKATO日陶 的高真空熱處理設(shè)備具有以下特點和應用場景?：

該設(shè)備可以在高真空環(huán)境下進行熱處理，真空度可達10^-5帕。使用碳/金屬加熱器，由于在反射器結(jié)構(gòu)中不使用絕緣體，因此可以獲得高溫、清潔的氣氛。其標準規(guī)格如下：

• ?使用溫度?：2000℃

• ?有效尺寸?：φ800×L500mm

• ?真空度?：10^-5帕

• ?氣氛?：真空、減少、NH3等?。

此外，NIKKATO日陶還提供其他類型的熱處理設(shè)備，包括：

• ?精密退火熱處理設(shè)備?：使用溫度為1000℃，有效尺寸為W1000×D1000×H250mm，適用于浸泡處理，氣氛可選空氣中或惰性氣體?。

• ?高壓熱處理設(shè)備?：可在高溫（最高1600℃）和高壓（最高9.9MPa）下進行熱處理，爐內(nèi)尺寸為φ100×H100mm?。

• ?超高溫氧化氣氛熱處理設(shè)備?：使用溫度可達1800℃，適用于還原氣氛、惰性氣氛等特殊氣氛處理?。

這些設(shè)備廣泛應用于各種工業(yè)和實驗室場景，如高溫物性測定、金屬溶解熔融等?