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NIKKATO日陶高溫高壓熱處理設(shè)備——高溫高壓氣淬爐和小型電爐?NIKKATO日陶的高溫高壓熱處理設(shè)備主要包括高溫高壓氣淬爐和小型電爐等類型。?高溫高壓氣淬爐高溫高壓氣淬爐是一種基于真空技術(shù)實現(xiàn)金屬材料熱處理的關(guān)鍵設(shè)備，其最高工作溫度可達1300℃。該設(shè)備通過高壓氣體快速冷卻工件以實現(xiàn)淬火效果，主要采用氮氣作為冷卻介質(zhì)，通過熱交換器和風(fēng)機協(xié)同運作完成淬火過程。其核心參數(shù)包括：?工作尺寸?：1000mm×600mm×600mm?極限真空度?：5×10??mbar?最高溫度?：...

NIKKATO日陶精密退火熱處理設(shè)備各種材料的退火處理?NIKKATO日陶精密退火熱處理設(shè)備?是一種在高溫和真空環(huán)境下進行熱處理的設(shè)備，主要用于各種材料的退火處理。以下是該設(shè)備的詳細介紹：設(shè)備規(guī)格和技術(shù)參數(shù)?使用溫度?：最高可達2000℃?。?有效尺寸?：標(biāo)準(zhǔn)尺寸為φ800×L500mm?。?真空條件?：可以在10^-5帕的高真空下進行熱處理?。?氣氛控制?：支持真空、減少、NH3等氣氛條件?。應(yīng)用領(lǐng)域和適用材料該設(shè)備適用于各種需要高溫?zé)崽幚淼牟牧?，如金屬、陶瓷等。其高真空?..

NIKKATO日陶高真空熱處理設(shè)備NIKKATO日陶的高真空熱處理設(shè)備具有以下特點和應(yīng)用場景?：該設(shè)備可以在高真空環(huán)境下進行熱處理，真空度可達10^-5帕。使用碳/金屬加熱器，由于在反射器結(jié)構(gòu)中不使用絕緣體，因此可以獲得高溫、清潔的氣氛。其標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格如下：?使用溫度?：2000℃?有效尺寸?：φ800×L500mm?真空度?：10^-5帕?氣氛?：真空、減少、NH3等?。此外，NIKKATO日陶還提供其他類型的熱處理設(shè)備，包括：?精密退火熱處理設(shè)備?：使用溫度為1000℃，有效...

旋轉(zhuǎn)爆破裝置一種利用高純度陶瓷球進行材料粉碎和分散的設(shè)備NIKKATO日陶的旋轉(zhuǎn)爆破裝置是一種利用高純度陶瓷球進行材料粉碎和分散的設(shè)備?。該裝置主要由高純度氧化鋁陶瓷球、氧化鋯陶瓷珠和氮化硅陶瓷球等組成，這些陶瓷球具有高硬度、低磨耗、高韌性等特點，適用于各種材料的粉碎和分散處理?。技術(shù)參數(shù)和應(yīng)用領(lǐng)域?HD材質(zhì)氧化鋁陶瓷球?：耐磨性好，適用于微粉碎、分散和混合等用途?。?HD-11材質(zhì)氧化鋁陶瓷球?：磨耗少，壽命長，適用于高硬度材料的粉碎?。?HD-2材質(zhì)氧化鋁陶瓷球?：抗斷裂...